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磨削精密陶瓷軸承球的新方法

Jul 11, 2023 留言

2023年7月第二週WBM精密陶瓷軸承球研磨技術知識

 

抽象的:提出了一種基於端面研磨研磨(EPGL)模式的精密陶瓷軸承球的研磨方法,使固體磨料的使用成為可能。 對EPGL模式進行了動力學分析和模擬,並建造了實驗裝置。 為了研究陶瓷軸承球加工過程中製程參數對去除率的影響,進行了一些初步實驗。 動力學分析和模擬發現,在此過程中sp角不斷變化,有利於球體的生成,並且透過EPGL獲得研磨軌跡的均勻性。 對實驗結果進行討論和分析,顯示轉盤轉速和負載對陶瓷球的去除率影響很大。 與傳統的V2槽研磨方式相比,EPGL方式研磨可以獲得高品質的陶瓷球,效率更高。

關鍵字:超精密球; 研磨均勻度; 固定磨料; 去除率

 

 

0。 介紹

隨著工業技術的發展,精密陶瓷球得到了廣泛的應用,但大多數仍採用傳統的精密鋼球設備進行加工,難以實現陶瓷球的高精度、高效加工。 因此研究一種新的精密陶瓷球磨削方法已變得日益迫切。 目前,除了傳統的V型槽磨削方法外,主要的精密球加工方法還有同軸三盤研磨法、磁流體磨削法、偏心V型槽磨削法、錐盤磨削法等。 這些方法與傳統磨削方法相比,品質顯著提高,但加工效率仍有提升空間。 使用固定磨料進行磨削是一種高效的磨削技術,但由於傳統軸承滾珠磨盤的複雜性,使用固定磨料進行軸承滾珠磨削有一定困難。 因此,一種新型的軸承滾珠磨削設備被提出,使得固定磨料的方便使用成為可能。

 

一、工作原理

圖1所示為平面磨削法的示意圖。 加工時,磨盤上的鋼球在保持架孔內旋轉的同時進行純滾動。 由於球體與研磨盤之間只有極小的接觸變形,因此可以認為研磨盤對球體進行特殊研磨,稱為「點研磨」。 鋪滿球的整個表面後,即可獲得完美的研磨球面。

 

 

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2. 動態分析

圖 2 是該裝置的平面圖,定義了結構和動態參數。 A為球與研磨盤的接觸點。 假設任一接觸點均無滑動,可得球體的自轉角速度 ω B 和自轉角 θ

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式中,ω C 為磨盤旋轉角速度,ω A 為保持架旋轉角速度,e 為保持架中心與磨盤中心之間的距離,r 為保持架中心與磨盤中心之間的距離保持架與球中心之間的角度,就是保持架的旋轉角度。 在加工過程中, ω A 、 ω C 、 e 、 r 是不變的,只是不斷變化,因此 θ 在加工過程中也不斷變化,保證了完整的成球過程。

 

傳統V型槽磨削法中,球體旋轉角速度ω B 和旋轉角度θ 如下

 

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Rb是球的直徑,RA是V形槽的直徑,它是V形槽的角度。 所以 θ 保持不變,很難生產出高品質的球體。

 

3. 模擬

為了獲得高品質的球體,在磨削過程中利用座標變換的方法設計了一系列光滑的研磨軌跡。 分析研磨軌跡時,球面座標(rb,ε 1,ε 2)。 根據地球經緯度建立球面座標系,ε 1 ε [- π, π], ε 2 ε [- π/2, π/2],按球面ε 1, ε 2 展開。 根據ε 1 、ε 2 將球體劃分為10×10個區域,根據該區域的面積,將ε 1 和ε 2 標準化,以標準差來描述研磨一致性。 模擬條件如表1所示。計算機計算出20個球旋轉週期的研磨軌跡和標準差,所有旋轉角速度均透過疊加計算。

 

表1 仿真條件

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圖3 顯示了兩種磨削方式θ 在圖3(d)中,可以明顯看出,磨削軌跡均勻分佈在球體表面,而在圖3(c)中,磨削軌跡僅在球體表面形成了3 個圓帶。領域。 圖3(a)中,θ在傳統V型槽研磨方法中,研磨軌跡保持不變,因此傳統V型槽磨削方法的磨削軌跡也保持不變。 理論上,這種方法無法形成球。 在平面磨削方法中,如圖3(b)所示,透過始終保持θ變化,可以實現較低的球面偏差。

 

4 實驗與分析

根據上述模擬,平面磨削具有均勻的磨削軌跡,並且還可以具有較高的去除效率,因為平面磨削球體使用固定磨料。 在Nanopoli2100精密平面磨床的基礎上進行實驗。 實驗原理如圖1所示。使用#400碳化硼固體研磨油石。 基本實驗參數為:保持架直徑D=110mm、陶瓷球直徑d=5mm、陶瓷球數n=4。

 

圖4顯示了陶瓷球的材料去除量和研磨時間的關係。 磨盤轉速ωC為80r/m in,負載P為0 6N,偵測時間間隔為15分鐘。 去除速率為0114μM/分鐘、0108μM/分鐘及0118μM/分鐘。 數據顯示材料去除加工仍相對穩定。

 

相同載重 P=0 6 N 時研磨盤轉速對陶瓷球去除率的影響如圖 5 所示。研磨盤轉速範圍為 40 r/m in 至 120 r/m in,處理時間為30 m in 。結果表明,研磨盤轉速越高,陶瓷球的去除率越高。

 

圖6顯示了負載對陶瓷球去除率的影響。 磨盤轉速為120 r/m in,實驗中使用兩種類型的載重P1=0 6 N和P2=1 2 N。處理時間也為30分鐘。 從圖6可以看出,隨著負荷的增加,陶瓷球的去除率迅速增加。

 

採用新的磨削方法後,可以輕鬆實現高去除率(10%μM/h),而傳統磨削方法的去除率只有1%μM/h甚至更低。 從初步實驗可以看出,平面磨削方法比傳統磨削方法的效率高得多。

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圖3 兩種磨削方式的θ變化及接觸軌跡

 

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5. 結論

從這篇文章可以得到以下結論:

從動力學分析可以看出,平面磨削中自轉角θ的連續變化有利於最終成球。 模擬結果表明,磨削軌跡均勻分佈在球體表面。 這些都有助於獲得較低的球形度偏差。

 

實驗顯示,平面磨削中材料去除過程穩定,磨盤轉速和負荷對陶瓷球去除率有顯著影響。 研磨盤轉速越高,陶瓷球的去除率越大; 隨著負載的增加,陶瓷球的去除率迅速增加。

 

平面磨削是精密陶瓷球加工的一種新方法。 儘管還有很多需要改進的地方,但與傳統的V型槽磨削方法相比,平面磨削具有高品質和高效率。

 

關於 WBM 的更多信息 調心滾子:

調心滾子軸承有兩列對稱的滾子,一個公共的球面外圈滾道和兩個與軸承軸線成一定角度的內圈滾道。 外圈滾道中的球體中心點位於軸承軸線處。

https://www.bearingroller.com/rolling-elements/taper-roller/spherical-2roller.html

 

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